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PLUTO-MH PLUTO-MH等離子表面處理系統(tǒng)(實(shí)驗(yàn)平臺(tái)) 等離子清洗器

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面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)PLUTO-MH
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2022-10-13
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量25
  • 人氣值520
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沛沅儀器是一家集等離子體技術(shù)設(shè)計(jì)、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務(wù)于一體的技術(shù)型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),向用戶提供國(guó)內(nèi)*的等離子表面處理設(shè)備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù)。

公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)67%以上具備碩士或碩士以上學(xué)位,公司由*從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)、多次參與國(guó)家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設(shè)備等,并與中科院上海應(yīng)用物理研究所,復(fù)旦大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),上海科技大學(xué),上海交通大學(xué)等建立了密切的技術(shù)合作交流關(guān)系。

 

公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國(guó)的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻(xiàn)一份力量。

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產(chǎn)地國(guó)產(chǎn) 電壓220V 工作溫度50℃
加工定制 清洗時(shí)間9999秒 適用領(lǐng)域科研
PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。針對(duì)用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時(shí),擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學(xué)反應(yīng),粉體等離子體處理等多種能力。
PLUTO-MH等離子表面處理系統(tǒng)(實(shí)驗(yàn)平臺(tái)) 等離子清洗器 產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品特點(diǎn):

針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用

等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)

采用500W功率電源,自動(dòng)阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求,保障高能量密度和高處理效率

高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求

316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)

4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式

可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請(qǐng)咨詢銷售人員)

根據(jù)用戶需求,提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備

 

產(chǎn)品參數(shù):

 

  1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
  2. 電極:兩個(gè)自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
  3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
  4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz
  5. 功率:0-500W連續(xù)可調(diào),自動(dòng)阻抗匹配,精度1W
  6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
  7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài),

可顯示設(shè)置值與實(shí)際值,便于實(shí)時(shí)控制。

可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時(shí)間

多級(jí)操作權(quán)限,多種工藝參數(shù)組合控制,

全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選

保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕

    (如需其他功能,請(qǐng)咨詢銷售人員)

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

 

配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用

加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和*提高樣品處理的均勻性

沉積鍍膜模塊,改變表面特性:

沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果

感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置

 

氣體混合裝置

可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)

 

氣體純化和反應(yīng)

氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)

關(guān)鍵詞:發(fā)生器 觸摸屏
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