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KRI 考夫曼射頻離子源 用于制備超薄 TEM 樣品

來源:上海伯東企業有限公司   2020年10月26日 14:34  

普通傳統的制樣減薄方法存在遠端的薄區極易彎曲和薄區厚度不均勻的問題, 因此某機構采用伯東 KRI考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 通過交叉減薄的方法制備超薄 TEM 樣品.

 

交叉減薄

交叉減薄的過程利用 TEM 樣品臺的旋轉來完成, 如下圖.

TEM 樣品臺模型圖

伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行刻蝕、沉積和減薄.

 

運行結果:

1. 通過利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 和樣品臺交叉減薄得到的薄區非常均勻, 邊緣整齊. 相比較傳統減薄方法, 交叉減薄避免了樣品在傾斜52°和56°減薄時出現的邊緣收縮問題和遠端薄區彎曲問題.

2. 對于復合材料大大降低了位于兩相界面處薄區的厚度, 提高了樣品質量, 提高了制樣的成功率和效率.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

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