氦檢漏儀的基本原理及主要組成部分：

 

    氦檢漏儀的性能、特性好壞取決于質譜分析室。質譜分析室的工作原理是對離子源氣體進行電離，電離出來的正離子經過電場加速聚焦通過縫隙進入均勻磁場，離子束在磁場力的作用下，旋轉180o或90o按一定軌跡到達收集極，此種形式稱之為磁性偏轉分析形式。然后，經小電流放大器、微處理器，控制器等線路處理直至液晶屏顯示出讀數的大小。

 

    氦檢漏儀在壓力容器中的常用方法

 

    在壓力容器中，使用氦檢漏儀檢漏常用的方法大體可分為三種，即噴氦法（負壓法），吸槍法（正壓法），氦罩法。就幾種方法的靈敏度比較而言，噴氦法的靈敏度高些。但是當檢漏儀安裝在大型的、比較復雜的壓力容器裝置上時，也不敢確切地說噴氦法的靈敏度就是高。

 

    （一）噴氦法

 

    噴氦法是最常用，最方便的檢漏方法。檢漏時，用連接在裝有氦氣的氣瓶上的噴槍向懷疑有漏泄的部位噴氦氣，如果有氦氣從漏孔中流入壓力容器裝置，則裝置內的氦分壓就會上升，氦檢漏儀上就會顯示有泄漏率。是否合格要看標準漏率值是定在多少，超過標準漏率值的可視為不合格。

 

    噴氦法檢漏中應該注意以下幾個問題：

 

    1、實際的檢漏靈敏度比理論計算值低，一是由于噴槍所噴出的氦氣流是散開的，故摻有一定數量的空氣，使氦氣的濃度有所降低。二是噴槍噴出的氣流的方向不可能完全對準漏孔的方向，此外、在凹缺處所存在的空氣會使得進入漏孔的氦氣濃度降低。

 

    2、檢漏次序：從被檢件物體的上方至下方，由*近檢漏儀處向遠離檢漏儀處逐點進行噴氦檢查。

 

    3、檢出的大漏孔要經修補后再去找小漏孔。

 

    4、當存在兩個相距很近的可疑的漏孔點時，應先把一個點蓋住，在對另一點用最細的噴槍進行噴氦。

 

    5、當噴槍噴在某一點時，如果，檢漏儀上的顯示有變化，其上升速度很慢且顯示值不穩定表示鄰近其它地方有很大漏孔。

 

    6、檢出漏孔后，還應再做幾次復檢。

 

    7、檢漏場地要有良好的通風條件，但也不能太大，不應影響噴槍噴出的氦氣氣流的方向。

 

    （二）吸槍法

 

    吸槍法是先向壓力容器裝置中充入一個以上的大氣壓的氦氣或氦氣與其他氣體的混合氣，從壓力容器裝置的外部檢測從漏孔泄漏到外部的氦氣，進而發現漏孔。用吸槍尋找氦氣時，一旦氦氣被吸入，氦檢漏儀就會顯示出漏率值。

 

    在這種情況下，因為壓力容器裝置外部是一個大氣壓，所以充入壓力容器裝置內的氣體壓至少需要一個大氣壓以上。但壓力不宜過高，壓力過高，插在裝置上的壓力表或其它插件就會彈出而發生傷人等危險事故。

 

    在噴氦法中，噴的氦氣很有可能把漏孔完全覆蓋上，這樣，氦分子就以接近一個大氣壓的壓力差通過孔進入內部，與此相反，吸槍法從大體來說，首先用氦氣使內部壓力達到一個大氣壓以上，如果壓力差達不到一個大氣壓以上，氦氣就不會以相同的量流到外部，接著漏出的氦氣馬上在大氣中擴散，即使是吸槍口（一般都是非常小的）也不可能把漏泄的氦氣全部吸進去。