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QRM-MicroCT-BarPattern-NANO分辨率測(cè)試卡，內(nèi)含兩個(gè)3mm×3mm硅質(zhì)芯片，分別水平和垂直安裝，芯片上刻有條狀（溝槽）和點(diǎn)狀圖樣，度規(guī)格為：1μm，2μm，3μm，4μm，5μm，6μm，7μm，8μm，9μm，10μm.
更新時(shí)間：2024-07-05
Cirs 016A-BR12分辨率測(cè)試卡,016A-BR12高分辨率線對(duì)卡只需一次曝光即可對(duì)乳房 X 線攝影系統(tǒng)分辨率進(jìn)行 QC 檢查！
更新時(shí)間：2024-07-03
JIMA RT RC-04分辨率測(cè)試卡是一種用于設(shè)置和測(cè)試微焦X射線系統(tǒng)的光刻生產(chǎn)的測(cè)試模式
更新時(shí)間：2024-07-31
JIMA RT RC-05B分辨率測(cè)試卡是一款采用半導(dǎo)體光刻技術(shù)制作的微型分辨率測(cè)試卡。它用于校準(zhǔn)和監(jiān)控系統(tǒng)分辨率，確保微焦點(diǎn)或納米焦點(diǎn)X射線檢測(cè)系統(tǒng)獲得高質(zhì)量的結(jié)果。JIMA RT RC-05B支持3微米至50微米（3 µ m至50 µ m）的分辨率。這對(duì)應(yīng)于6微米和100微米（6 µ m和100 µ m）之間的焦斑尺寸。
更新時(shí)間：2024-07-30
USAF 1951分辨率測(cè)試卡,光學(xué)成像系統(tǒng)的分辨率指該系統(tǒng)能否分開兩個(gè)靠近的點(diǎn)或物體細(xì)節(jié)的能力，通常以每毫米可以識(shí)別的線對(duì)數(shù)（lp/mm）來表示光學(xué)成像系統(tǒng)分辨率的大小
更新時(shí)間：2024-07-24
QRM-MicroBar測(cè)試模體，QRM QRM-MicroBar測(cè)試卡內(nèi)含兩個(gè)3mm×3mm硅質(zhì)芯片，分別水平和垂直安裝，芯片上刻有條狀（溝槽）和點(diǎn)狀圖樣，度規(guī)格為：1μm，2μm，3μm，4μm，5μm，6μm，7μm，8μm，9μm，10μm.
更新時(shí)間：2020-05-12
MicroCT-Barpattern-NANO分辨率測(cè)試卡，MicroCT-Barpattern-NANO納米顯微CT柱狀測(cè)試卡，采用雙硅芯片相互垂直、通過塑料支架固定的設(shè)計(jì)理念，使兩個(gè)3 x 3 mm²芯片均呈現(xiàn)數(shù)組線狀或點(diǎn)狀圖樣，寬度和直徑從1µm到10µm不等。
更新時(shí)間：2020-05-08
JIMA（日本檢測(cè)儀器制造商協(xié)會(huì)），致力于關(guān)注各種檢測(cè)儀器，其中包括無損檢測(cè)儀器，JIMA RT RC-05分辨率測(cè)試卡，用于測(cè)量X射線系統(tǒng)的分辨率，以保證X射線系統(tǒng)在微米和納米焦點(diǎn)的圖像質(zhì)量。
更新時(shí)間：2020-05-20
QRM QRM-MicroBar分辨率測(cè)試卡 內(nèi)含兩個(gè)3mm×3mm硅質(zhì)芯片，分別水平和垂直安裝，芯片上刻有條狀（溝槽）和點(diǎn)狀圖樣，度規(guī)格為：1μm，2μm，3μm，4μm，5μm，6μm，7μm，8μm，9μm，10μm.
更新時(shí)間：2024-06-17
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